《集成电路技术及其产业发展》试题 | |
作者:教师教育… 文章来源:本站原创 点击数 更新时间:2022/7/6 10:37:09 文章录入:shixunchu 责任编辑:shixunchu | |
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一、单项选择 1、集成电路是一种微型电子器件或部件,其英文缩写是( C )。 A. CPU B. RAM C. IC D. AI 2、 晶体管的发明被称为“20世纪最伟大的发明”,其发明者( A )被称为晶体管之父。 A. 威廉·肖克利 B. 约翰·佛莱明 C. 罗伯特·诺伊斯 D. 杰克·基尔比 3、集成电路根据其内部集中的元器件数目,可以分为小规模、中规模、大规模、超大规模、特大规模、巨大规模等,其中集成元器件数目超过1亿的集成电路是( D ) A. 大规模 B. 超大规模 C. 特大规模 D. 巨大规模 4、按照国际通行的半导体产品标准方式进行分类,半导体可以分为( B )、分立器件、传感器和光电子器件四大类。 A. 存储电路 B. 集成电路 C. 模拟电路 D. 数字电路 5、集成电路的集成度是指单块芯片上所容纳的元件数目,集成度越高,所容纳的元件数目越多,其生产工艺要求也越高。通常我们称的7nm生产工艺是指集成电路内部的( C )。 A. 主频 B. 核心数 C. 线宽 D. 集成度 6、在做数字芯片集成电路设计时,因集成度越来越高,已经无法人为绘制电路图,这时会使用一种计算机辅助设计工具软件,来完成电路图自动化生成,这类软件一般称为( A )。 A. EDA B. EDU C. CAD D. PPT 7、半导体IP(Intellectual Property)指在集成电路设计中,经过验证的、可重复使用且具备特定功能的集成电路模块,以下哪个公司属于IP知识产权提供商( B )。 A. 荷兰ASML B. 英国ARM C. 韩国三星 D. 中国华为 8、集成电路芯片制造过程中,最重要的一个工艺流程就是光刻,其设备光刻机被称为工业装备里的“皇冠”。全球现今能实现7nm及以下工艺要求的光刻机生产厂商是( A ) A. 荷兰ASML B. 日本尼康 C. 日本佳能 D. 中国上海微电子 9、1986年,电子部在厦门召开“七五”集成电路发展战略研讨会,提出“七五”期间我国集成电路发展战略,这是我国首次针对集成电路产业提出发展战略,该战略又称( C )。 A. “908”工程 B. “909”工程 C. “531”战略 D. “742”战略 10、为推动我国集成电路产业的发展,国务院于2020年7月印发了( D ),进一步优化了集成电路产业和软件产业的发展环境,制定了详细的政策支撑。 A. 《国家集成电路产业发展推进纲要》 B. 《鼓励软件产业和集成电路产业发展若干政策》 C. 《进一步鼓励软件产业和集成电路产业发展若干政策》 D. 《新时期促进集成电路产业和软件产业高质量发展的若干政策》 二、简答题: 1、简要叙述集成电路发展中的摩尔定律主要内容: 答:(1)、集成电路芯片上所集成的电路的数目,每隔18个月就翻一番; (2)、微处理器的性能每隔18个月提高一倍,而价格下降一半; (3)、用一美元所能买到的计算机性能,每隔18个月翻两番。 2、简要回答我国“十四五”期间,集成电路产业的重点发展方向: 答:“十四五”期间,我国集成电路产业将围绕技术升级、工艺突破、产业发展和设备材料研发四个方面重点发展。 |
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